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序1
序2
前言
第1章 概述
 1.1 离子镀膜技术的应用领域
 1.2 科学技术现代化对薄膜产品的新要求
 1.3 镀膜技术的类型
  1.3.1 薄膜的初始制备技术
  1.3.2 离子镀膜技术
 1.4 本书的主要内容
第2章 真空物理基础知识
 2.1 真空
  2.1.1 真空的定义
  2.1.2 真空的形成
  2.1.3 真空度的意义
 2.2 气体分子运动的基本规律
  2.2.1 理想气体分子运动规律
  2.2.2 理想气体的压强
  2.2.3 气体分子的平均自由程
  2.2.4 碰撞截面
  2.2.5 分子运动速度
 2.3 气体分子和固体表面的相互作用
  2.3.1 碰撞
  2.3.2 吸附和解吸或脱附
  2.3.3 蒸发和升华
 2.4 阴极表面的电子发射
  2.4.1 固体表面的电子状态
  2.4.2 金属的热电子发射
  2.4.3 金属的冷场致发射
  2.4.4 光电子发射
  2.4.5 二次电子发射
 参考文献
第3章 等离子体物理基础知识
 3.1 引言
 3.2 等离子体
  3.2.1 等离子体的定义
  3.2.2 等离子体的分类
  3.2.3 等离子体的获得方法
 3.3 气体的激发和电离
  3.3.1 带电粒子的运动状态
  3.3.2 粒子间碰撞后能量的变化规律
  3.3.3 由电子非弹性碰撞产生的激发与电离
  3.3.4 第二类非弹性碰撞
  3.3.5 附着和离脱
  3.3.6 带电粒子的消失——消电离
  3.3.7 气体放电中的发光现象
 3.4 气体放电
  3.4.1 气体放电的过程
  3.4.2 气体放电的伏安特性曲线
 3.5 辉光放电
  3.5.1 辉光放电的特点
  3.5.2 正常辉光放电和异常辉光放电
  3.5.3 辉光放电两极间各种特性的分布
  3.5.4 辉光放电的空心阴极效应
  3.5.5 射频放电
  3.5.6 微波放电
  3.5.7 大气压下的辉光放电
 3.6 弧光放电
  3.6.1 弧光放电的特性
  3.6.2 弧光放电的类型
  3.6.3 热弧光放电
  3.6.4 冷阴极弧光放电
 3.7 带电粒子的作用
  3.7.1 离子的作用
  3.7.2 电子的作用
 3.8 带电粒子的运动
  3.8.1 带电粒子在电场中的运动
  3.8.2 带电粒子在磁场中的运动
  3.8.3 带电粒子在电磁场中的运动
 3.9 电磁场的运用
  3.9.1 同轴电磁场型离子镀膜机
  3.9.2 正交电磁场型离子镀膜机
 参考文献
第4章 真空蒸发镀膜技术
 4.1 真空蒸发镀膜技术的分类
 4.2 真空蒸发镀膜机
  4.2.1 电阻蒸发镀膜机
  4.2.2 电子枪蒸发镀膜机
  4.2.3 激光蒸发镀膜机
  4.2.4 高频感应加热蒸发镀膜机
 4.3 真空蒸发镀膜层的组织
  4.3.1 真空蒸发镀膜层的形成条件
  4.3.2 真空蒸发镀膜层的生长规律
  4.3.3 影响膜层生长的因素
  4.3.4 膜层厚度的均匀性
 4.4 真空蒸发镀膜机
  4.4.1 立式蒸发镀膜机
  4.4.2 卷绕式蒸发镀膜机
 参考文献
第5章 辉光放电离子镀膜技术
 5.1 直流二极型离子镀膜技术
  5.1.1 直流二极型离子镀膜的装置
  5.1.2 直流二极型离子镀膜的工艺过程
  5.1.3 直流二极型离子镀膜中的粒子能量
  5.1.4 直流二极型离子镀膜的条件
  5.1.5 直流二极型离子镀膜中高能离子的作用
  5.1.6 离子镀膜层形成的影响因素
  5.1.7 直流二极型离子镀膜技术的特点
 5.2 辉光放电离子镀膜技术的发展
  5.2.1 电子枪蒸发源直流二极型离子镀膜技术
  5.2.2 活性反应离子镀膜技术
  5.2.3 热阴极离子镀膜技术
  5.2.4 射频离子镀膜技术
  5.2.5 集团离子束离子镀膜技术
 5.3 增强型辉光放电离子镀膜技术的共同特点
 参考文献
第6章 热弧光放电离子镀膜技术
 6.1 空心阴极离子镀膜技术
  6.1.1 空心阴极离子镀膜机
  6.1.2 空心阴极离子镀膜的工艺过程
  6.1.3 空心阴极离子镀膜的条件
  6.1.4 空心阴极离子镀膜机的发展
 6.2 热丝弧离子镀膜技术
  6.2.1 热丝弧离子镀膜机
  6.2.2 热丝弧离子镀膜的工艺过程
 6.3 热弧光放电离子镀膜的技术特点
 6.4 辉光放电离子镀膜与热弧光放电离子镀膜对比
  6.4.1 电子枪对比
  6.4.2 镀膜技术特点对比
 参考文献
第7章 阴极电弧离子镀膜技术
 7.1 阴极电弧源
 7.2 小弧源离子镀膜技术
  7.2.1 小弧源离子镀膜机的结构
  7.2.2 小弧源离子镀膜的工艺过程
 7.3 阴极电弧离子镀膜的机理
 7.4 阴极电弧离子镀膜技术的发展
  7.4.1 小弧源离子镀膜机的发展
  7.4.2 矩形平面大弧源离子镀膜机
  7.4.3 柱状阴极电弧源离子镀膜机
 7.5 对阴极电弧离子镀膜机配置的特殊要求
  7.5.1 引弧装置的设置
  7.5.2 磁场的设置
  7.5.3 屏蔽结构的设置
 7.6 阴极电弧离子镀膜技术的特点
 7.7 清洗技术的发展
  7.7.1 钛离子清洗工件的不足
  7.7.2 弧光放电氩离子清洗技术
  7.7.3 气态源弧光放电氩离子清洗技术
  7.7.4 固态源弧光放电氩离子清洗技术
 7.8 阴极电弧离子镀中脉冲偏压电源的作用
 参考文献
第8章 磁控溅射镀膜技术
 8.1 磁控溅射镀膜的设备与工艺过程
  8.1.1 平面靶磁控溅射镀膜机
  8.1.2 磁控溅射镀膜的工艺过程
 8.2 阴极溅射和磁控溅射
  8.2.1 阴极溅射
  8.2.2 磁控溅射
 8.3 磁控溅射镀膜技术的特点
  8.3.1 磁控溅射镀膜技术的优点
  8.3.2 磁控溅射镀膜技术的不足
 8.4 磁控溅射离子镀膜技术的发展
  8.4.1 柱状磁控溅射靶
  8.4.2 平衡磁控溅射靶与非平衡磁控溅射靶
  8.4.3 磁控溅射镀介质薄膜技术的进步
  8.4.4 热阴极增强磁控溅射
  8.4.5 高功率脉冲磁控溅射
 8.5 磁控溅射工件清洗新技术
  8.5.1 ABS源
  8.5.2 弧光放电氩离子清洗工件
  8.5.3 用弧光放电源增强磁控溅射镀膜
 参考文献
第9章 带电粒子流在镀膜中的作用
 9.1 带电粒子流的类型
 9.2 离子束
  9.2.1 离子束的能量及作用
  9.2.2 离子注入
  9.2.3 离子束溅射镀膜和离子束刻蚀
  9.2.4 离子束辅助沉积及低能离子源
 9.3 弧光电子流
  9.3.1 弧光电子流的特点与产生方法
  9.3.2 弧光电子流的应用
 参考文献
第10章 等离子体增强化学气相沉积技
 10.1 气态物质源镀膜技术分类
 10.2 化学气相沉积技术
  10.2.1 热化学气相沉积技术
  10.2.2 金属有机化合物气相沉积技术
  10.2.3 原子层沉积技术
 10.3 等离子体增强化学气相沉积技术
  10.3.1 等离子体增强化学气相沉积技术类型
  10.3.2 直流辉光放电增强化学气相沉积技术
 10.4 等离子体增强化学气相沉积原理
  10.4.1 多原子气体的热运动
  10.4.2 多原子气体的激发和电离
  10.4.3 等离子体中固体表面的反应
  10.4.4 等离子体增强化学气相沉积技术的优点
 10.5 各种新型等离子体增强化学气相沉积技术
  10.5.1 直流磁控电子回旋PECVD技术
  10.5.2 网笼等离子体浸没离子沉积技术
  10.5.3 电磁增强型卷绕镀膜机
  10.5.4 射频增强等离子体化学气相沉积技术
  10.5.5 微波增强等离子体化学气相沉积技术
  10.5.6 电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积技术
  10.5.7 热丝弧弧光增强等离子体化学气相沉积技术
  10.5.8 直流等离子体喷射电弧增强化学气相沉积技术
 参考文献
第11章 等离子体聚合技术
 11.1 概述
  11.1.1 等离子体聚合的定义与特点
  11.1.2 各种等离子体聚合技术简介
 11.2 等离子体聚合原理
  11.2.1 等离子体中的激励活化反应
  11.2.2 等离子体聚合反应
 11.3 等离子体聚合装置及工艺
  11.3.1 等离子体聚合装置
  11.3.2 等离子体聚合工艺
  11.3.3 等离子体聚合工艺条件的选择和控制
 11.4 等离子体聚合膜的应用领域
  11.4.1 等离子体直接聚合膜的应用领域
  11.4.2 等离子体引发聚合薄膜的应用领域
 11.5 等离子体表面改性
  11.5.1 等离子体表面改性的定义
  11.5.2 等离子体表面改性的特点
  11.5.3 等离子体表面改性用的气体
  11.5.4 等离子体表面改性的应用领域
 参考文献
第12章 离子镀膜在太阳能利用领域的应用
 12.1 概述
 12.2 太阳能光伏薄膜领域的镀膜技术
  12.2.1 晶硅太阳能电池中的镀膜技术
  12.2.2 异质结太阳能电池中的镀膜技术
  12.2.3 晶硅太阳能电池镀膜技术的发展
  12.2.4 碲化镉、铜铟镓硒和钙钛矿太阳能电池中的镀膜技术
 12.3 太阳能光热领域的镀膜技术
  12.3.1 光热薄膜材料
  12.3.2 低温光热薄膜
  12.3.3 中温光热薄膜
  12.3.4 高温光热薄膜
 12.4 展望
 参考文献
第13章 离子镀膜在信息显示薄膜领域的应用
 13.1 信息显示技术的发展
 13.2 现代信息显示原理
 13.3 信息显示器件与信息显示薄膜
  13.3.1 薄膜晶体管
  13.3.2 有机发光二极管
  13.3.3 信息显示薄膜与离子镀膜技术
 13.4 信息显示薄膜的制备
  13.4.1 有源层薄膜
  13.4.2 OLED发光功能层薄膜
  13.4.3 导电电极薄膜
  13.4.4 绝缘层薄膜
 13.5 信息显示薄膜器件的制备
 13.6 展望
 参考文献
第14章 离子镀膜在装饰性薄膜领域的应
 14.1 概述
 14.2 装饰性薄膜的颜色
 14.3 装饰性薄膜的性能要求
 14.4 装饰性薄膜材料的选择与优化
  14.4.1 金色系装饰性薄膜
  14.4.2 黑色系装饰性薄膜
  14.4.3 银色系装饰性薄膜
  14.4.4 干涉装饰性薄膜
 14.5 装饰性薄膜的发展趋势
  14.5.1 鲜艳的颜色
  14.5.2 优异的耐蚀性
  14.5.3 更高的力学性能
 参考文献
第15章 离子镀膜在光学薄膜领域的应用
 15.1 光学薄膜的定义与基础
  15.1.1 光学薄膜的定义
  15.1.2 光学薄膜的理论基础
  15.1.3 减反射光学薄膜
  15.1.4 高反射光学薄膜
  15.1.5 光学滤光片
 15.2 光学薄膜的应用领域
  15.2.1 光学薄膜在镀膜眼镜行业的应用
  15.2.2 光学薄膜在仪器设备上的应用
  15.2.3 光学薄膜在手机产品中的应用
  15.2.4 光学薄膜在汽车行业中的应用
  15.2.5 光学薄膜在光通信领域中的应用
  15.2.6 光学薄膜在幕墙玻璃中的应用
  15.2.7 光学薄膜在生物医疗领域中的应用
  15.2.8 光学薄膜在红外波段产品中的应用
  15.2.9 光学薄膜在投影显示产品中的应用
 15.3 光学薄膜的制备技术
  15.3.1 物理气相沉积
  15.3.2 化学气相沉积
  15.3.3 原子层沉积
 15.4 光学薄膜的表征
 参考文献
第16章 离子镀膜在硬质涂层领域的应
 16.1 高端加工业对涂层刀具的新要求
 16.2 硬质涂层的类型
  16.2.1 普通硬质涂层
  16.2.2 超硬涂层
 16.3 沉积硬质涂层的离子镀膜技术及其新发展
  16.3.1 沉积硬质涂层的常规技术
  16.3.2 沉积硬质涂层技术的发展
 参考文献
第17章 离子镀膜在碳基薄膜领域的应用
 17.1 概述
  17.1.1 碳基薄膜的类型
  17.1.2 碳基薄膜的三元相图
 17.2 碳基薄膜的结构
  17.2.1 金刚石薄膜的结构
  17.2.2 类金刚石碳基薄膜的结构
  17.2.3 类石墨碳基薄膜的结构
  17.2.4 类聚合物碳基薄膜的结构
 17.3 碳基薄膜的制备技术与性能
  17.3.1 金刚石薄膜的制备技术与性能
  17.3.2 类金刚石碳基薄膜的制备技术与性能
  17.3.3 类石墨碳基薄膜的制备技术与性能
  17.3.4 类聚合物碳基薄膜的制备技术与性能
 17.4 非晶碳基薄膜的应用
  17.4.1 类金刚石碳基薄膜的应用
  17.4.2 类石墨碳基薄膜的应用
  17.4.3 类聚合物碳基薄膜的应用
 参考文献
第18章 离子镀膜在热电薄膜领域的应用
 18.1 热电技术及热电器件
  18.1.1 塞贝克效应和帕尔贴效应
  18.1.2 热电器件
 18.2 热电薄膜材料
  18.2.1 超晶格热电薄膜
  18.2.2 柔性热电薄膜
 18.3 热电薄膜制备中常用的离子镀膜技术
  18.3.1 分子束外延
  18.3.2 磁控溅射
  18.3.3 脉冲激光沉积
  18.3.4 其他常见热电薄膜制备技术
 18.4 离子镀膜技术在热电器件中的应用
  18.4.1 在微型热电器件研究中的应用
  18.4.2 在热电器件电极制备中的应用
 18.5 展望
 参考文献
第19章 离子镀膜在低温离子化学热处理中的应用
 19.1 概述
  19.1.1 离子化学热处理
  19.1.2 低温离子化学热处理
 19.2 低温离子化学热处理工艺
  19.2.1 不锈钢低温离子化学热处理工艺
  19.2.2 工模具钢低温离子化学热处理工艺
 19.3 低温离子化学热处理温度的选择
  19.3.1 常规离子渗氮温度
  19.3.2 低温离子化学热处理温度
 19.4 低温离子化学热处理新技术
  19.4.1 增设活性屏技术
  19.4.2 热丝增强低温离子渗技术
  19.4.3 弧光放电增强低温离子渗技术
 参考文献
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